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Samcoサムコ株式會社 Samcoサムコ株式會社主要經(jīng)營設(shè)備化學(xué)氣相沉積原子層沉積等離子體CVD液態(tài)CVD®刻蝕ICP刻蝕深硅蝕刻反應(yīng)離子刻蝕表面處理等離子清洗紫外線臭氧清洗Samcoサムコ株式會社原子層沉積(ALD)發(fā)現(xiàn)更多原子層沉積(ALD)是一種薄膜生長技術(shù)，能夠為電子器件(電源和射頻)沉積無針孔和均勻的絕緣體薄膜。ALD在高長寬比溝槽和通孔結(jié)構(gòu)上提供了優(yōu)異的保形性，在角級的厚度控制，以及基于連續(xù)、自限性反發(fā)布時間：2022-06-10 14:17 點擊次數(shù)：631 次
