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日本MIKASA|涂布機、勻膠機、旋轉(zhuǎn)涂膜儀|中國代理店塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
日期：2025-07-01 23:39
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摘要：日本MIKASA|涂布機、勻膠機|中國代理店塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求
MIKASA米卡薩 旋轉(zhuǎn)涂布機蝕刻機光刻機 半導體晶圓涂抹MS-B150
MIKASA米卡薩 旋轉(zhuǎn)涂布機蝕刻機光刻機 半導體晶圓涂抹MS-B150
日本MIKASA|涂布機、勻膠機|中國代理店塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨
旋轉(zhuǎn)涂膜儀
滴液裝置可選組件 吸盤
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密閉型)
●MS-B300 (密閉型)
日本MIKASA光刻機
●MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路圖案。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置
●ED-1200
●ED-3000
日本MIKASA|涂布機、勻膠機、旋轉(zhuǎn)涂膜儀|中國代理店塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
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