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ULVAC 愛發(fā)科 濺射設備

日期：2025-07-04 01:37
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摘要：ULVAC 愛發(fā)科，主要經營內容，顯示器、半導體、電子、電氣、金屬、機械、汽車、化工、食品和制藥行業(yè)以及大學和實驗室的真空設備、外圍設備、真空部件和材料的開發(fā)、制造、銷售、客戶支持和機器的進出口。 此外，他還擔任真空技術研究指導和技術顧問。

ULVAC 愛發(fā)科，顯示器、半導體、電子、電氣、金屬、機械、汽車、化工、食品和制藥行業(yè)以及大學和實驗室的真空設備、外圍設備、真空部件和材料的開發(fā)、制造、銷售、客戶支持和機器的進出口。



在面向智能社會的不斷增長的半導體器件市場提高市場份額

隨著支持物聯(lián)網 （IoT） 的大數(shù)據處理設備、服務器和邊緣計算機的增長，半導體器件的發(fā)展令人矚目的變化。 不僅傳統(tǒng)的 DRAM 和 NAND，而且由非易失性存儲器組成的存儲類內存也增加了增長的機會。 通過小型化實現(xiàn)處理器技術**。
對于這些**半導體，Alback 的目標是在傳統(tǒng)的 NAND 和 DRAM 內存以及新的 PCRAM 和邏輯/基礎兩個輪子上實現(xiàn)增長。

基于 Alback 獨特的業(yè)務增長戰(zhàn)略，我們將開發(fā)不同于**競爭對手解決方案制造商的業(yè)務。
作為中期戰(zhàn)略產品，我們將利用天然氧化膜去除裝置和濺射沉積設備的優(yōu)勢，開發(fā)新技術，以應對*先進的設備。


濺射設備 負載鎖定類型

多室
濺射設備ENTRONTM-EX W300

它是一個單片多腔平臺，在鋁、Cu 和高熔點金屬布線工藝方面擁有豐富的經驗。 結合 SIS（自旋轉）-PVD、金屬 CVD/ALD 和 DRY 預處理模塊，適應下一代工藝，實現(xiàn)*佳的性價比。




ULVAC 愛發(fā)科特點

  • 我們公司的傳統(tǒng)機器TM基于 -W300/W200 系列的*新型號，主要是為了提高生產率。
  • *多可安裝 8 個工藝（PVD、ALD、CVD 等）和 2 個（德加斯、酷）模塊。
  • 配備本公司制造的新型搬運機器人，實現(xiàn)機械吞吐量100wph以上。
  • S 型（單類型）和巨型晶圓（串聯(lián)型）是專用工藝或微型晶圓盒的理想選擇，可靈活響應您的生產計劃。
  • 可安裝ED-PMS系統(tǒng)，用于監(jiān)控和管理設備的運行狀態(tài)，并配備非接觸式薄膜厚度測量裝置MESEC-BIT。

ULVAC 愛發(fā)科 用途

  • *先進的半導體制造設備



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